21世紀(jì)是納米科技時代，納米加工是納米科技的關(guān)鍵技術(shù)。納米通用圖形發(fā)生器是納米加工的重要裝備。它可以配備到掃描電子顯微鏡（SEM）、聚焦離子束系統(tǒng)(FIB)，構(gòu)建成納米加工設(shè)備，進(jìn)行納米圖形加工和納米微結(jié)構(gòu)制造。它適用于科研院所和高等院校的半導(dǎo)體、光電子、MEMS實驗室。
DY-2000A納米通用圖形發(fā)生器技術(shù)參數(shù)
一、 軟件技術(shù)參數(shù)
1. 基于Windows的操作系統(tǒng)的EBL應(yīng)用軟件，具有強大的圖形編輯，讀寫及轉(zhuǎn)換及圖形導(dǎo)入功能。
2. ★具有圖像分層設(shè)計功能，用戶可根據(jù)需要將任意幾何元素定義在不同的層，實現(xiàn)單層或多層組合曝光；
3. ★具有圖像采集功能，并據(jù)此對樣品圖像的平移、旋轉(zhuǎn)、增益（縮放）進(jìn)行控制，可實現(xiàn)位移，旋轉(zhuǎn)，增益矯正刻寫場，提升曝光分辨率。
4. 具有標(biāo)記檢測和位置修正，用于拼接和套刻對準(zhǔn)。
5. 具有曝光點、線、區(qū)域及任意圖形的能力；
二、 硬件技術(shù)指標(biāo)
1. ★掃描頻率優(yōu)于10 MHZ，傳輸數(shù)率不低于300MB/S。
2. 具有獨立的X和Y方向電子束偏轉(zhuǎn)控制，D/A轉(zhuǎn)換不小于16位；
3. 12 位高性能，小溫漂的ADC圖形采集系統(tǒng)，信噪比高。
4. 采用高性能的微處理器，信號處理能力優(yōu)于30M,支撐高效，高分辨的曝光。
5. ★選用獨立于PC工作站之外的、D/A和A/D獨立模塊，配備屏蔽抗干擾機箱的控制系統(tǒng)。減少干擾，穩(wěn)定性優(yōu)于PCI板卡集成系統(tǒng)設(shè)備。
6. ★配有5.6寸LED顯示屏，可實時、直觀的顯示曝光進(jìn)程。
7. 配有27寸液晶顯示器和PC圖形控制系統(tǒng)。
8. ★具有末端控制信號實時跟蹤顯示功能，用于診斷圖形輸出信號。
